下列哪一项不是天然水的三大杂质之一（ ）。

气相色谱法测定干法H2的组分岗位存在的环境因素是（ ）。

露点法测定气体中水分的设备环境要求是保持工作环境高纯卫生，温度4-40度，相对湿度小于（ ），现场整洁，无腐蚀性气体，不得有电路和火种。

RO反渗透技术是利用（ ）为动力的膜分离过滤技术。

人们通常将水分为纯水和（ ）。

离子交换树脂是一种高分子化合物，是由树脂的骨架和（ ）两部分组成。

对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用蒸发法使用微量高纯水和SiHCL3作用产生少量（ ）水解物，对痕量杂质元素有吸附作用。

纯水制备系统混床的再生反洗的目的是（ ）。

以下那一项不是三氯氢硅中痕量磷的气象色谱测定步骤中，在温度680度和石英石的催化作用下，样品及其含磷杂质分别被氢还原产物（ ）。

制取高纯水时一般采用（ ）交换树脂和（ ）交换树脂。

RO系统清洗过程中RO膜污染原因与使用药剂搭配错误的是（ ）。

混床的再生具体操作步骤正确的是有（ ）。

以下DUI 纯水制备系统中多介质过滤器注意事项叙述错误的是（ ）。

离子交换法制备纯水时，新树脂的预处理方式是（ ）。

自动软化系统注意事项下述叙述正确的是（ ）。

混床的再生中是两种树脂充分混合的方法有（ ）。

高纯水的检测时，测量方法有（ ）。

X射线形貌技术的试验方法有（ ）。

下列哪三项是天然水的三大杂质（ ）。

自动软化系统反洗的目的是（ ）。

为了使氢离子和氢氧根离子完全结合成水，阴、阳树脂必须交换出等量的离子。

只有多介质过滤器处于运行时才能对活性炭过滤器进行日常维护。

硅单晶中线度小于10-4cm的缺陷称为微陷。

对三氯氢硅中硼的分析采用蒸发法。

RO系统清洗过程应密切注意清洗液温度上升，不得超过35℃。

气相色谱法测定干法H2的组成存在的环境因素是潜在的液氮低温冻伤。

制取高纯水时一般采用强酸型阳离子交换树脂。

露点法检测气体存在的危险是氢气泄露引起的燃烧核爆炸。

离子交换法制备纯水用阴树脂可以得到高纯水。

纯水制备系统反渗透系统要把浓水调节阀和进水调节阀完全关闭。

将下列活性炭过滤器工作原理一一对应。 （1）反洗 （2）运行 （3）正洗

将下列离子交换树脂的类型与变型用化学试剂用量浓度一一对应。 （1）强酸型离子交换树脂 （2）强碱型离子交换树脂 （3）干树脂

将下列RO膜污染原因与适应药液一一对应。 （1）碳酸盐结垢 （2）有机物污染及硫酸盐结构 （3）细菌污染

将下列三氯氢硅中硼的分析试剂一一对应。 (1)纯水 (2)氢氟酸 (3)Be 标准液

将下列混床树脂再生步骤与内容一一对应。 （1）逆流分层 （2）碱液再生阴离子交换树脂 （3）酸液再生阴离子交换树脂

将下列混床再生中操作步骤一一对应。 （1）逆洗分层 A.再生剂为5%的NaOH，用量为树脂体积的3-5倍，从上口进入，控制一定流速，维持液面顺流通过 （2）强碱性阴离子交换树脂再生 B.水从底部进入，上口排出，树脂均匀地松弛蓬松开来，可加大水流速以冲不出树脂为原 则，洗至出水清高度 （3）强酸性阳离子交换树脂再生 C.再生剂为5%盐酸，用酸量为阳离子交换树脂体积的2-3倍

将下列气相色谱法测定干法H.的组分时样品测试各恒温系统与温度一一对应 (1)层析室 (2)检测室 (3)气化室

将下列质谱分析造成其误差较高的因素与原因一一对应。 （1）杂质不均匀 （2）各元素电离效率 （3）谱线黑度

将下列天然水中杂质三大部分情况一一对应。 （1）悬浮物质 （2）胶体物质 （3）溶解物质

将下列分析项目与分析方法一一对应。 （1）三氯氢硅中硼的分析 （2）三氯氢硅中痕量磷的气相色谱测定 （3）X射线形貌技术